IEC 62047-45, являясь важным стандартом в области микроэлектромеханических систем (MEMS), разработал систематический метод, специально предназначенный для измерения ударопрочности наноструктур на основе кремния. Выпуск этого стандарта заполняет пробел в области испытаний механических характеристик в микро-наномасштабе, особенно в достижении технологических прорывов в тестировании на месте и корреляции процесса.
Самым большим нововведением этого стандарта является введение концепции тестера на кристалле in-situ, который объединяет испытательную структуру и испытательное оборудование на одном кристалле, реализуя одновременную реализацию производственного процесса и тестирования производительности. Такая конструкция позволяет избежать ограничений традиционных методов испытаний, требующих сложных приборов (таких как сканирующие зондовые микроскопы, наноинденторы) и специальных образцов.
| Метод испытаний | Традиционный метод | Этот стандартный метод | Сравнение преимуществ | ||||||||||||||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Требования к оборудованию | Требуется дорогостоящее оборудование, такое как СЗМ и наноиндентор | Требуется только оптический микроскоп и приводное устройство | Снижение затрат более чем на 80% | ||||||||||||||||||||||
| Подготовка образцов | Требуется подготовка образцов |
| Название параметра | Символ | Рекомендуемое значение (мкм) | Описание |
|---|---|---|---|
| Толщина конструкции подвески | h | 60 | Определяет жесткость конструкции |
| Длина балки накопления энергии | l | 1400 | Влияет на емкость накопления энергии |
| Ширина балки накопления энергии | w | 15 | Основные размерные параметры |
| Испытательная конструкция Длина | a | 150 | Наномасштабная тестовая структура |
| Радиус ударного молотка | R | 15 | Площадь ударного контакта |
Во время внедрения необходимо в полной мере учитывать ограничения процесса травления по размерам линии и пространства. Если потеря ширины линии составляет 0,5 мкм, а требуется, чтобы погрешность была менее 10%, ширина пучка накопления энергии w должна быть больше 15 мкм для обеспечения точности испытания.
Рекомендуется использовать стратегию разделенного испытания, начиная с максимального отклонения (40 мкм). Если тестовая структура не разрушается, постепенно испытывайте испытательную установку с меньшими прогибами, пока не будет найдено минимальное значение D, вызывающее разрушение тестовой структуры. Уменьшение интервала D может улучшить разрешающую способность испытания.
Процесс изготовления тестового устройства должен соответствовать требованиям к качеству сценария применения. Тестовая структура и устройство MEMS должны быть изготовлены с использованием одного и того же процесса, чтобы гарантировать, что результаты испытаний действительно отражают эксплуатационные характеристики фактического устройства.
Внедрение стандарта IEC 62047-45 принесет множество преимуществ отрасли MEMS: во-первых, он обеспечивает стандартизированный метод измерения ударопрочности наноструктур, делая результаты испытаний разных производителей сопоставимыми; во-вторых, он снижает затраты на испытания и технические барьеры, способствуя популяризации и применению технологии MEMS; наконец, он устанавливает количественный мост между проектированием и производством, помогая оптимизировать конструкцию продукта и параметры процесса.
Этот стандарт особенно подходит для приложений MEMS, требующих высокой надежности, таких как автомобильная электроника, медицинское оборудование, аэрокосмическая промышленность и т. д., и предоставляет технические гарантии, обеспечивающие долговременную надежность микро-наноустройств в этих критически важных приложениях.

© 2025. Все права защищены.