GSO IEC 60749-19:2014 Полупроводниковые приборы. Механические и климатические методы испытаний. Часть 19. Прочность матрицы на сдвиг. - Стандарты и спецификации PDF

GSO IEC 60749-19:2014
Полупроводниковые приборы. Механические и климатические методы испытаний. Часть 19. Прочность матрицы на сдвиг.

Стандартный №
GSO IEC 60749-19:2014
Дата публикации
2014
Разместил
GCC Standardization Organization
Последняя версия
GSO IEC 60749-19:2014
 

сфера применения
Эта часть IEC 60749 определяет (см. примечание) целостность материалов и процедур, используемых для крепления полупроводникового кристалла к заголовкам корпуса или другим подложкам (для целей данного метода испытаний термин «полупроводниковый кристалл» следует понимать как включающий пассивные элементы). . Этот метод испытаний обычно применим только для полых упаковок или в качестве монитора процесса. Это не применимо для площадей матрицы более 10 мм2. Он также неприменим к технологии флип-чипов или гибким подложкам. П р и м е ч а н и е 1 — Это определение основано на измерении силы, приложенной к штампу или элементу, а также, в случае возникновения отказа, на типе разрушения, возникающего в результате приложения силы, а также на внешнем виде остаточной среды крепления штампа и Металлизация заголовка/подложки. П р и м е ч а н и е 2 — В пустотелых упаковках прочность штампа на сдвиг измеряют, чтобы гарантировать прочность крепления штампа внутри полости. В упаковках без полостей, таких как упаковки с пластиковой капсулой, используется склеивание матрицы для предотвращения движения матрицы до полного отверждения полимерной формы. Обычно указание прочности матрицы на сдвиг и минимальной площади сцепления матрицы после формования не требуется, за исключением следующих обстоятельств:  ——когда матрицу необходимо электрически соединить с подушкой матрицы;  ——когда тепло от матрицы необходимо рассеивать через соединение матрицы.

GSO IEC 60749-19:2014 История

  • 2014 GSO IEC 60749-19:2014 Полупроводниковые приборы. Механические и климатические методы испытаний. Часть 19. Прочность матрицы на сдвиг.

стандарты и спецификации

DS/EN 60749-19:2003 Полупроводниковые приборы. Механические и климатические методы испытаний. Часть 19. Прочность матрицы на сдвиг. IEC 60749-19:2003+AMD1:2010 CSV Полупроводниковые приборы. Механические и климатические методы испытаний. Часть 19. Прочность матрицы на сдвиг. KS C IEC 60749-19-2020 приборы. Механические и климатические методы испытаний. Часть 19. Прочность матрицы на сдвиг. UNE-EN 60749-19:2003/A1:2011 Полупроводниковые приборы. Механические и климатические методы испытаний. Часть 19. Прочность матрицы на сдвиг. KS C IEC 60749-19:2020 Полупроводниковые приборы. Механические и климатические методы испытаний. Часть 19. Прочность матрицы на сдвиг. DS/EN 60749-19/A1:2010 Полупроводниковые приборы. Механические и климатические методы испытаний. Часть 19. Прочность матрицы на сдвиг. CEI EN 60749-19/A1:2011 Полупроводниковые приборы. Механические и климатические методы испытаний. Часть 19. Прочность матрицы на сдвиг. KS C IEC 60749-19:2005 Полупроводниковые приборы. Механические и климатические методы испытаний. Часть 19. Прочность матрицы на сдвиг. UNE-EN 60749-19:2003 Полупроводниковые приборы. Механические и климатические методы испытаний. Часть 19. Прочность матрицы на сдвиг.



© 2025. Все права защищены.