GB/T 14142-1993 (Англоязычная версия) Метод испытаний поверхностного сопротивления эпитаксиальных, диффузных и ионно-имплантированных слоев кремния с использованием коллинеарной четырехзондовой установки - Стандарты и спецификации PDF

GB/T 14142-1993
Метод испытаний поверхностного сопротивления эпитаксиальных, диффузных и ионно-имплантированных слоев кремния с использованием коллинеарной четырехзондовой установки (Англоязычная версия)

Стандартный №
GB/T 14142-1993
язык
Китайский, Доступно на английском
Дата публикации
1993
Разместил
General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
состояние
 2018-04
быть заменен
GB/T 14142-2017
Последняя версия
GB/T 14142-2017
сфера применения
Настоящий стандарт определяет методы отображения методом химического травления и контроля кристаллических дефектов эпитаксиального слоя кремния с помощью металлографического микроскопа. Настоящий стандарт применим для измерения дефектов упаковки и плотности дислокаций в эпитаксиальном слое кремния. Толщина эпитаксиального слоя кремния должна быть более 2 мкм. Диапазон измерения составляет 010000см2.

GB/T 14142-1993 История

  • 2017 GB/T 14142-2017 Метод испытаний кристаллографического совершенства эпитаксиальных слоев кремния — метод травления
  • 1993 GB/T 14142-1993 Метод испытаний поверхностного сопротивления эпитаксиальных, диффузных и ионно-имплантированных слоев кремния с использованием коллинеарной четырехзондовой установки



© 2023. Все права защищены.