GB/T 14847-2010
Метод определения толщины эпитаксиальных слоев легколегированного кремния на подложках из сильнолегированного кремния методом отражения инфракрасного излучения (Англоязычная версия)

Стандартный №

GB/T 14847-2010

язык

Китайский, Доступно на английском

Дата публикации

2011

Разместил

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China

Последняя версия

GB/T 14847-2010

заменять

GB/T 14847-1993

сфера применения

Этот стандарт определяет метод измерения коэффициента отражения инфракрасного излучения для толщины эпитаксиального слоя легколегированного кремния на сильнолегированной подложке. Настоящий стандарт применяется к измерению толщины эпитаксиальных слоев кремния n-типа и p-типа, удельное сопротивление подложки которых составляет менее 0,02 Ом·см при 23°C, а удельное сопротивление эпитаксиального слоя превышает 0,1 Ом·см. при 23°С и толщине эпитаксиального слоя более 2 мкм; С точки зрения точности этот метод в принципе также подходит для проверки толщины эпитаксиальных слоев n-типа и p-типа от 0,5 до 2 мкм.

GB/T 14847-2010 Ссылочный документ

• GB/T 14264 Терминология полупроводниковых материалов*， 2024-04-25 Обновление
• GB/T 1552 Методика измерения удельного сопротивления монокристаллического кремния и германия коллинеарной четырехзондовой решеткой
• GB/T 6379.2  Точность (правильность и точность) методов измерения и результатов. Часть 2: Основной метод определения повторяемости и воспроизводимости стандартного метода измерения.

GB/T 14847-2010 История

• 2011 GB/T 14847-2010 Метод определения толщины эпитаксиальных слоев легколегированного кремния на подложках из сильнолегированного кремния методом отражения инфракрасного излучения
• 1993 GB/T 14847-1993 Метод определения толщины эктаксиальных слоев легколегированного кремния на подложках из сильнолегированного кремния по коэффициенту отражения инфракрасного излучения

Специальные темы по стандартам и нормам

стандарты и спецификации