ASTM E1577-04 Стандартное руководство по составлению отчетов о параметрах ионного пучка, используемых при анализе поверхности - Стандарты и спецификации PDF

ASTM E1577-04
Стандартное руководство по составлению отчетов о параметрах ионного пучка, используемых при анализе поверхности

Стандартный №
ASTM E1577-04
Дата публикации
2004
Разместил
American Society for Testing and Materials (ASTM)
состояние
быть заменен
ASTM E1577-11
Последняя версия
ASTM E1577-11
сфера применения
Ионные пучки используются при анализе поверхности двумя способами. Во-первых, они могут генерировать сигналы от образца, например, в ВИМС и МКС. Во-вторых, они могут удалять материал с поверхности образца, в то время как метод анализа поверхности определяет состав свежеоблученной поверхности. Этот процесс называется профилированием глубины распыления. В идеале в этом руководстве требуется сообщать обо всех характеристиках ионного пучка, которые могут повлиять на результаты, чтобы можно было воспроизвести измерения. 1.1 В этом руководстве содержится информация, необходимая для характеристики ионных пучков, используемых при анализе поверхности. 1.2 Настоящее руководство не охватывает всю информацию, необходимую для определения профиля глубины распыления (см. справочные документы), не указывает каких-либо свойств образца, кроме его нормали к поверхности, и не обсуждает обоснование выбора конкретного набора параметров ионного пучка (1,7). . В этом руководстве предполагается, что поток ионов имеет уникальное направление, то есть представляет собой пучок ионов, а не широкий спектр векторов скорости, более типичный для плазмы. 1.3 Настоящий стандарт не претендует на решение всех проблем безопасности, если таковые имеются, связанных с его использованием. Пользователь настоящего стандарта несет ответственность за установление соответствующих мер безопасности и охраны труда и определение применимости нормативных ограничений перед использованием.

ASTM E1577-04 Ссылочный документ

  • ASTM E1127 Стандартное руководство по профилированию глубины в электронной оже-спектроскопии
  • ASTM E1162 Стандартная практика представления данных о профиле глубины распыления в масс-спектрометрии вторичных ионов (ВИМС)
  • ASTM E673  Стандартная терминология, относящаяся к анализу поверхности
  • ASTM E684 Стандартная практика приближенного определения плотности тока ионных пучков большого диаметра для профилирования глубины распыления твердых поверхностей
  • ASTM E996 Стандартная практика представления данных в электронной оже-спектроскопии и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии

ASTM E1577-04 История

  • 2011 ASTM E1577-11 Стандартное руководство по составлению отчетов о параметрах ионного пучка, используемых при анализе поверхности
  • 2004 ASTM E1577-04 Стандартное руководство по составлению отчетов о параметрах ионного пучка, используемых при анализе поверхности
  • 1995 ASTM E1577-95(2000) Стандартное руководство по составлению отчетов о параметрах ионного пучка, используемых при анализе поверхности



© 2023. Все права защищены.