T/ICMTIA 5.3-2020
Литография ArF Photo Resist для измерения межградуальных цепей (Англоязычная версия)

Стандартный №

T/ICMTIA 5.3-2020

язык

Китайский, Доступно на английском

Дата публикации

2020

Разместил

Group Standards of the People's Republic of China

Последняя версия

T/ICMTIA 5.3-2020

---

сфера применения

В этом документе указаны требования и методы фотолитографических испытаний, стандарты испытаний, требования к упаковке, транспортировке, хранению и защите окружающей среды для фоторезиста ArF.

T/ICMTIA 5.3-2020 История

• 2020 T/ICMTIA 5.3-2020 Литография ArF Photo Resist для измерения межградуальных цепей

Специальные темы по стандартам и нормам

стандарты и спецификации