Настоящий стандарт распространяется на травление во время обработки полупроводников/ЖК-дисплеев или нанесение покрытий внутри технологического оборудования для химического осаждения из паровой фазы (CVD).
KS C 6521-2008 История
2021KS C 6521-2021 Метод оценки покрытия компонентов полупроводникового и ЖК-процесса
2019KS C 6521-2019 Метод оценки покрытия компонентов полупроводникового и ЖК-процесса
2008KS C 6521-2008 Метод оценки покрытия компонентов полупроводникового и ЖК-процесса