ASTM E1078-02 Стандартное руководство по подготовке и установке образцов при анализе поверхности - Стандарты и спецификации PDF

ASTM E1078-02
Стандартное руководство по подготовке и установке образцов при анализе поверхности

Стандартный №
ASTM E1078-02
Дата публикации
2002
Разместил
American Society for Testing and Materials (ASTM)
состояние
быть заменен
ASTM E1078-09
Последняя версия
ASTM E1078-14(2020)
сфера применения
Правильная подготовка и установка образцов особенно важны для анализа поверхности. Неправильная подготовка образцов может привести к изменению состава поверхности и получению недостоверных данных. С образцами следует обращаться осторожно, чтобы избежать попадания ложных примесей в процесс подготовки и монтажа. Целью должно быть сохранение состояния поверхности, чтобы анализ оставался репрезентативным для оригинала. Электронная оже-спектроскопия (AES), рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия (XPS или ESCA) и масс-спектрометрия вторичных ионов (SIMS) чувствительны к поверхностным слоям, толщина которых обычно составляет несколько нанометров (нм). Такие тонкие слои могут подвергаться серьезным возмущениям, вызванным обращением с образцом (1)3 или обработкой поверхности, которая может потребоваться перед введением в аналитическую камеру. Кроме того, методы крепления образцов могут повлиять на предполагаемый анализ. В этом руководстве описаны методы, которые могут понадобиться специалисту по анализу поверхности, чтобы минимизировать влияние подготовки образцов при использовании любого аналитического метода, чувствительного к поверхности. Также описаны методы крепления образцов, позволяющие гарантировать, что желаемая информация не будет скомпрометирована. Руководство E 1829 описывает обращение с образцами, чувствительными к поверхности, и, как таковое, дополняет данное руководство. 1.1 Настоящее руководство охватывает подготовку и установку образцов до, во время и после анализа поверхности и применимо к следующим дисциплинам анализа поверхности: 1.1.1 Оже-электрон спектроскопия (AES), 1.1.2 рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия (XPS и ESCA) и 1.1.3 масс-спектрометрия вторичных ионов (SIMS). 1.1.4 Хотя эти методы в основном написаны для AES, XPS и SIMS, они также применимы. ко многим методам анализа, чувствительным к поверхности, таким как спектрометрия рассеяния ионов, дифракция низкоэнергетических электронов и спектроскопия потерь энергии электронов, где обращение с образцом может повлиять на измерения, чувствительные к поверхности.1.2 Настоящий стандарт не претендует на решение всех проблем безопасности, если таковые имеются, связанные с его использованием. Пользователь настоящего стандарта несет ответственность за установление соответствующих мер безопасности и охраны труда и определение применимости нормативных ограничений перед использованием.

ASTM E1078-02 История

  • 2020 ASTM E1078-14(2020) Стандартное руководство по подготовке и установке образцов при анализе поверхности
  • 2014 ASTM E1078-14 Стандартное руководство по подготовке и установке образцов при анализе поверхности
  • 2009 ASTM E1078-09 Стандартное руководство по подготовке и установке образцов при анализе поверхности
  • 2002 ASTM E1078-02 Стандартное руководство по подготовке и установке образцов при анализе поверхности
  • 1997 ASTM E1078-97 Стандартное руководство по процедурам подготовки и крепления образцов при анализе поверхности



© 2023. Все права защищены.