GB/T 17866-1999 (Англоязычная версия) Руководство по программным маскам дефектов и эталонные процедуры анализа чувствительности систем контроля дефектов по маскам - Стандарты и спецификации PDF

GB/T 17866-1999
Руководство по программным маскам дефектов и эталонные процедуры анализа чувствительности систем контроля дефектов по маскам (Англоязычная версия)

Стандартный №
GB/T 17866-1999
язык
Китайский, Доступно на английском
Дата публикации
1999
Разместил
General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
Последняя версия
GB/T 17866-1999
сфера применения
Целью настоящего стандарта является разработка набора тестовых масок, которые можно использовать для оценки чувствительности систем контроля дефектов масок. Этот набор тестовых масок включает в себя: тестовый чип с нестандартными дефектами шаблона и эталонный тестовый чип без дефектов пользовательского шаблона. Поскольку тестовый чип состоит из различных блоков, в этом стандарте тестовый чип определяется схемой ячеек, специально созданными дефектами в схеме ячеек и расположением ячеек. Кроме того, тестовая маска определяется путем указания расположения тестовых чипов. В этом стандарте также описывается использование данного набора масок. В прошлом при проверке чувствительности оборудования многие производители и пользователи оборудования использовали разные маски, и каждый производитель и пользователь выбирали разные методы испытаний. В некоторых случаях до сих пор не существует гармонизированного метода измерения или метода анализа чувствительности. Поэтому при сравнении чувствительности оборудования разных производителей, когда производители и пользователи договариваются о спецификациях, а также когда пользователи и пользователи договариваются о спецификациях, неизбежно возникает путаница. Поэтому при оценке чувствительности системы контроля дефектов маски лучше использовать испытательную маску, указанную в настоящем стандарте.

GB/T 17866-1999 История

  • 1999 GB/T 17866-1999 Руководство по программным маскам дефектов и эталонные процедуры анализа чувствительности систем контроля дефектов по маскам



© 2023. Все права защищены.