Принимает измерение OTF в качестве объективного метода испытаний для установления и выражения характеристик оптических устройств и систем, включая системы формирования изображения или сборки и линзы, но обычно не относится к отдельным частям многокомпонентной системы. Специально ограничено испытаниями линзовых или зеркальных систем формирования изображения или их комбинаций. Рассматриваемые методы используют локализованные отверстия, такие как щели или края, или расширенный периодический экран, такой как решетка. Также дано руководство по эксплуатации измерительного оборудования ОТФ.
BS 4779:1971 История
0000 BS 4779:1971(2011)
1971BS 4779:1971 Рекомендации по измерению оптической передаточной функции оптических устройств