ISO 23170:2022
Химический анализ поверхности. Профилирование по глубине. Неразрушающее профилирование по глубине наноразмерных тонких пленок оксидов тяжелых металлов на подложках Si с рассеянием ионов средней энергии.

Стандартный №

ISO 23170:2022

Дата публикации

2022

Разместил

International Organization for Standardization (ISO)

Последняя версия

ISO 23170:2022

сфера применения

В этом документе описан метод количественного профилирования по глубине ультратонких пленок аморфных оксидов тяжелых металлов на подложках Si с использованием рассеяния ионов средней энергии (MEIS).

ISO 23170:2022 Ссылочный документ

• ISO 18115 Химический анализ поверхности - Словарь; Поправка 2

ISO 23170:2022 История

• 2022 ISO 23170:2022 Химический анализ поверхности. Профилирование по глубине. Неразрушающее профилирование по глубине наноразмерных тонких пленок оксидов тяжелых металлов на подложках Si с рассеянием ионов средней энергии.